アズワン 研究用高純度シリコンウェハー 2×P型 25枚入

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アズワン 研究用高純度シリコンウェハー 2×P型 25枚入

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アズワン 研究用高純度シリコンウェハー 2×P型 25枚入

  • アズワン
  • 研究用高純度シリコンウェハー
  • 2×P型
  • 25枚入

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研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

【仕様】●サイズ(インチ)×伝導型:2×P型●OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):17.5±2.5×280±25●入数:1箱(25枚入)●製造方法:CZ法●面方位:100●OF位置:110●抵抗値:0.1〜100Ω・cm ※低抵抗:≦0.02Ω・cm、高抵抗:≧500Ω・cm●パーティクル:≧0.3μm、10個以下●※特注対応品:●▼方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。●▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●▼8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。●生産国:日本

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【仕様】●サイズ(インチ)×伝導型:2×P型●OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):17.5±2.5×280±25●入数:1箱(25枚入)●製造方法:CZ法●面方位:100●OF位置:110●抵抗値:0.1〜100Ω・cm ※低抵抗:≦0.02Ω・cm、高抵抗:≧500Ω・cm●パーティクル:≧0.3μm、10個以下●※特注対応品:●▼方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。●▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●▼8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。●生産国:日本

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